DIT静电处理技术方案在半导体行业的应用
DIT静电处理技术方案在半导体行业的应用
一、半导体行业静电处理痛点分析
半导体行业对静电控制的要求极高，静电不仅会导致颗粒物污染，还会对敏感器件造成损害。主要的痛点包括：
Fuzzy Ball和放电针侵蚀：在半导体制造过程中，空气中的氧气、氢气、水分与离子结合形成的Fuzzy Ball（NH4NO3）会附着在晶圆表面，导致颗粒物污染。同时，放电针的侵蚀会导致尖端破损，缩短静电消除器的寿命。
超近距离静电消除需求：在半导体制造过程中，需要在极短的距离内快速消除静电，以确保生产过程的稳定性和产品的质量。
粉尘污染控制：半导体制造环境中，粉尘颗粒物的存在会严重影响芯片的良率和性能，因此需要高效的粉尘去除和过滤系统。
二、DIT静电处理技术方案
1. High Class Ionizer：抑制Fuzzy Ball和放电针侵蚀
DIT的High Class Ionizer通过以下技术手段解决了Fuzzy Ball和放电针侵蚀的问题：
Fuzzy Ball抑制技术：通过Short-Pulse方式的波形输入，快速切断电压，抑制放电针尖端部位的过度Plasma Field现象，从而减少Fuzzy Ball的产生。
放电针保护技术：通过优化电压规格，最小化放电针的损伤，延长静电消除器的寿命和维护周期。
Offset电压控制：与原有型号相比，实现了极小的Offset电压，确保静电消除的稳定性和均匀性。
2. Low Offset Ionizer：超近距离快速除电
DIT的Low Offset Ionizer在超近距离静电消除方面具有显著优势：
超近距离静电消除：可在10~100mm的超近距离内实现静电消除，满足半导体制造中对快速除电的需求。
Low Offset电压控制：通过电场屏蔽结构和提高放电针输出电压频率，实现±5V水准的Low offset电压，确保静电消除的高效性和稳定性。
快速响应：1秒内快速除电，适用于高速生产环境。
3. Electrical Particulate Filter：高效粉尘去除
DIT的Electrical Particulate Filter通过静电吸附原理，有效去除和过滤粉尘颗粒物：
静电集尘技术：利用高压放电使粉尘带电，通过相反极性的电极捕获粉尘颗粒。
高效过滤性能：可捕获0.3um至1.0um的粉尘颗粒，捕获率高达92.0%~99.5%。
广泛应用：适用于半导体制造、MLCC制造、薄膜制造、医药品和食品包装工程等多种场景。
三、DIT静电处理方案的优势
全面的静电控制：通过High Class Ionizer和Low Offset Ionizer的组合，实现了从Fuzzy Ball抑制到超近距离快速除电的全方位静电控制。
高效的粉尘去除：Electrical Particulate Filter提供了强大的粉尘捕获能力和高通气性，确保生产环境的洁净度。
适应性强：适用于各种半导体制造工艺和环境，满足高洁净度和高效率的生产需求。
四、结论
DIT的静电处理技术方案通过技术创新和优化，有效解决了半导体行业中的静电处理痛点。其产品在抑制颗粒物污染、快速除电和高效粉尘去除方面表现出色，为半导体制造企业提供了可靠的解决方案，助力提升产品质量和生产效率。
