10nm 扩展 ISO Class1 条形离子发生器 AeroBarMP5635
兼容扩展ISO Class1、10纳米 条形离子发生器 AeroBarMP 型号5635产品信息型号5635 AeroBarMP离子发生器,是专为尖端半导体制造工序等需管控100纳米以下微小颗粒的场景设计的除静电产品,可适配超低颗粒环境要求。核心特点单晶硅电极在全球范围内拥有无可比拟的应用实绩,兼具超低颗粒排放特性,同时可规避电极材料带来的金属污染风险。采用独创的MP(脉冲调制)技术,具备高效将离
兼容扩展ISO Class1、10纳米 条形离子发生器 AeroBarMP 型号5635产品信息型号5635 AeroBarMP离子发生器,是专为尖端半导体制造工序等需管控100纳米以下微小颗粒的场景设计的除静电产品,可适配超低颗粒环境要求。核心特点单晶硅电极在全球范围内拥有无可比拟的应用实绩,兼具超低颗粒排放特性,同时可规避电极材料带来的金属污染风险。采用独创的MP(脉冲调制)技术,具备高效将离
型号5635 AeroBarMP离子发生器,是专为尖端半导体制造工序等需管控100纳米以下微小颗粒的场景设计的除静电产品,可适配超低颗粒环境要求。
单晶硅电极在全球范围内拥有无可比拟的应用实绩,兼具超低颗粒排放特性,同时可规避电极材料带来的金属污染风险。
采用独创的MP(脉冲调制)技术,具备高效将离子输送至目标区域的优异除静电性能。
具备小电位摆动特性,即便在100毫米距离下仍可稳定使用;且沿条形长度方向离子平衡均匀性佳,偏差极小。
搭载智能控制电路,可实时自动监控并调节离子发生状态及离子平衡。
电极采用可更换设计,仅需1/4圈旋转即可完成装卸,大幅减少维护工时。
MP技术的核心优势在于电位摆动极小,不仅简化了设备调试流程,还能有效确保长期使用过程中离子平衡始终维持在管理标准范围内。
提供适配半导体前工序EFEM(设备前端模块)的条形长度规格,适配性更强。
内置24伏直流驱动控制器,设计紧凑小巧,节省安装空间。
全球范围内可享受高水平的技术支持网络服务,保障使用体验。
| 项目 | 详情 |
|---|---|
| 输入电压 | 24伏直流 ±10% |
| 输出电压 | 最大约13.5千伏峰峰值,可调节 |
| 安装距离 | 100毫米~1000毫米(无气体吹扫) |
| 离子发生方式 | 电晕放电方式;MP(脉冲调制)方式,调制频率1~33赫兹 |
| 离子平衡 | 自动平衡调节方式;条形正下方(600毫米距离),偏差±10伏以内,不同位置差异±10伏以内 |
| 电极 | 单晶硅电极,可更换 |
| 吹扫气体 | 洁净干燥空气或氮气(N₂) |
| 最大吹扫压力 | 310千帕 |
| 臭氧排放量 | <0.05ppm(24小时累计值) |
| 信号输出 | 报警IO,集电极开路输出 |
| 尺寸 | 高度78毫米 × 深度34毫米 × 长度(可选规格):450/600/850/1000/1150/1300/1450/1600/1750/1900/2050/2200/2350毫米 |
| 外壳材质 | ABS树脂 |
扩展ISO Class1、10纳米是ION Systems为适配微小颗粒管控需求而独自定义的洁净度标准。
ISO14644-1标准的最小粒径定义为100纳米,而扩展ISO Class1、10纳米采用与ISO14644-1相同的允许颗粒数计算公式,其允许颗粒数为:粒径10纳米及以上的颗粒,每立方米不超过1200个(每立方英尺34个)。