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局部清洁除静电离子发生器 QuadBar 型号4635

一、产品概述QuadBar 型号4635是SIMCO推出的高清洁度除静电离子发生器,在传统型号4630/4632的基础上进行深度优化,进一步提升了除电性能与操作便捷性。该产品专为空间受限、气流环境特殊的场景设计,尤其适用于半导体制造中的光罩(レチクル)除电、晶圆处理等对洁净度与除电精度要求极高的场景,可在复杂环境下实现稳定、高效的静电消除。二、核心特点自动离子平衡调节,免维护操作采用SIMCO独自

一、产品概述

QuadBar 型号4635是SIMCO推出的高清洁度除静电离子发生器,在传统型号4630/4632的基础上进行深度优化,进一步提升了除电性能与操作便捷性。该产品专为空间受限、气流环境特殊的场景设计,尤其适用于半导体制造中的光罩(レチクル)除电、晶圆处理等对洁净度与除电精度要求极高的场景,可在复杂环境下实现稳定、高效的静电消除。

二、核心特点

  1. 自动离子平衡调节,免维护操作
    采用SIMCO独自的IsoStat技术,可自动调节离子平衡,无需人工进行调整作业,长期使用仍能保持稳定的离子平衡状态,降低运维成本。

  2. 宽电压兼容,适配多场景供电
    支持24V DC与24V AC双电源输入,满足不同工业环境的供电需求,无需额外配置专用电源,提升安装灵活性。

  3. 高洁净电极,保障半导体安全
    电极采用可更换单晶硅材质,无微粒脱落风险,清洁度符合半导体器件生产要求,避免对精密元件造成污染或损伤。

  4. 紧凑设计+短安装距离,布局灵活
    最小安装距离仅7.6cm,机身尺寸小巧(高33mm×宽33mm×长91mm,不含空气连接部),可在狭窄空间内灵活布置,适配复杂的设备布局。

  5. 高效吹扫气流,实现长距离高速除电
    全新设计的吹扫气流通道(Cross-Channel Air Delivery),搭配可选的“喷射跨通道滤芯(Jet Cross-Channel Cartridge)”,可实现长距离静电消除,同时大幅提升除电速度。

  6. 额外功能升级(补充特性)

    • 支持滤芯旋转设计(Rotatable Cartridge),便于根据场景调整气流方向;

    • 采用四极结构(Quadropole Configuration),优化离子分布,减少电场电压干扰;

    • 具备报警输出功能,可连接至FMS(工厂制造系统)或工艺工具控制器,实时监控设备状态。

三、详细规格参数

规格类别具体参数
离子发生方式电晕放电式 稳态DC方式(Steady-State DC)
电极单晶硅材质,支持更换
清洁度等级24V DC供电:ISO Class 1;24V AC供电(搭配33-1421-01变压器/4030控制器):ISO Class 2
兼容吹扫气体清洁干燥空气(Clean Dry Air)、氮气(N₂)
空气连接方式4mm内径配管
空气流量范围最大25LPM(升/分钟)
输入电压24V AC:±5%偏差,50/60Hz,典型电流0.1A(功耗约2.4W);
24V DC:±5%偏差,典型电流0.025A(功耗约0.6W)
除电时间标准滤芯:15LPM吹扫气体、30cm距离下,<15秒;
喷射跨通道滤芯:15LPM吹扫气体、30cm距离下,<6秒
离子平衡15cm距离下,±20V(部分场景兼容±50V,以实际应用环境为准)
最大可连接数量搭配14-1535变压器:最多4台;搭配4030控制器:最多15台(部分规格支持16台)
机身尺寸(不含空气连接部)高33mm × 宽33mm × 长91mm(带法兰时:高36.1mm×宽33.5mm×长114mm)
重量108g(约0.24磅)
认证标准CE、RoHS、TOV(符合国际工业安全与环保标准)

四、目标市场与应用场景

1. 目标市场

  • 半导体制造行业:前端半导体制造(晶圆加工)、后端半导体封装测试。

2. 核心应用场景

  • 光罩(Reticle)除电:针对光罩存储、传输过程中的静电消除,避免静电吸附微粒影响光刻精度;

  • 晶圆处理:在晶圆搬运机器人的上下方安装,可同时消除晶圆正面与背面的静电,且不受气流环境影响;

  • 精密电子元件生产:空间受限的洁净工位(如芯片封装、微型传感器组装)的局部静电控制。

五、产品核心优势总结

  1. 高洁净+高安全:ISO Class 1级清洁度与单晶硅电极,适配半导体等精密制造场景,无微粒污染风险;

  2. 高效除电:最快6秒完成30cm距离除电,满足高速生产节奏需求;

  3. 灵活适配:宽电压、小尺寸、多台联动,适配不同供电环境与复杂设备布局;

  4. 低运维成本:自动离子平衡调节+可更换电极,减少人工维护频率与成本。

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