TFHSM-12.7C06-532超级反射镜SIGMA KOKI西格玛光机光学元件
イオンビームスパッタリング法（IBS）を使用して、緻密で欠陥の少ない高品質な膜が蒸着されています。 特殊な研磨技術を用い、表面粗さRa0.1nm以下の低散乱基板を使用しています。 長年築き上げてきた膜設計技術により、反射率99.999％の反射膜を実現しました。 基板や膜による散乱損失は極めて小さく、キャビティーを構成したときに、非常に狭いスペクトル幅と高いフィネスが期待できます。 波長532nmと1064nmの2タイプをご用意しています。